Вакуумные технологические процессы и оборудование микроэлектроники
Данилин Борис Степанович
Аннотация издательства: В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам, используемым для откачки химически активных газов; рассмотрены и сопоставлены основные виды насосов.
年:
1987
出版社:
Машиностроение
语言:
russian
页:
37
文件:
DJVU, 985 KB
IPFS:
,
russian, 1987